Leestijd: < 1 minuten
Henk Klomp
Ingenieurs van het micro-elektronicacentrum IMEC in Leuven zijn erin geslaagd de productie van de volgende generatie chips twintig maal te versnellen ten opzichte van nu.
De technici testten als eerste de splinternieuwe NXE:3100 EUV-scanner van ASML, die speciaal is gemaakt voor chipproductie met extreem ultraviolet licht. Ze etsten chips met details van 4 nm uit wafers van 300 mm. Als lichtbron gebruikten ze een plasma dat ze elektrisch laten ontladen met behulp van lasers. Ze gaan het vermogen van deze plasmabron nu opschroeven tot 100 W voor in de fabriek. De chipindustrie wil in 2013 tot massaproductie van EUV-chips overgaan.
