Doorbraak fotonische kristallen

Leestijd: < 1 minuten

Indra Waardenburg

Onderzoekers van het Mesa+ Instituut in Twente hebben in samenwerking met TNO en ASML een nieuwe methode ontwikkeld voor het aanbrengen van 3d-structuren in kristallijn silicium.

De onderzoekers doen dit in twee relatief korte stappen gebruikmakend van standaard apparatuur. Met behulp van UV-licht projecteren zij een poriestructuur op een laagje fotoresist waardoor een zogenaamd masker ontstaat. Dit masker gebruiken zij vervolgens om diepe nanoporiën te etsen in een plak silicium. In de tweede stap brengen de wetenschappers het masker aan op de zijkant van het materiaal waardoor na het etsen de poriën een diamantstructuur vormen die zich gedraagt als een halfgeleider van licht: een fotonisch kristal. In de toekomst is deze methode volgens de onderzoekers te gebruiken bij de productie van optische chips.

Lees ook

Nieuwsbrief
* indicates required