Electron Beam Lithography herleeft

Leestijd: < 1 minuten Teake Zuidema Burn Lin van Taiwan Semiconductor Manufacturing zegt in IEEE Spectrum dat electron beam lithography (EBL) dankzij geavanceerde micromachining een serieuze concurrent wordt voor extreme ultraviolet lithography (EUV) bij het etsen van alsmaar kleinere circuits op wafers. EBL is door insiders jarenlang afgeschreven als te duur en te langzaam voor nanolithografie. Taiwan Semiconductor bereikt […]

Driemaal goedkopere chipbeveiliging

Leestijd: < 1 minuten Henk Klomp Wiskundigen van de universiteit van Leuven zijn erin geslaagd een chipbeveiliging te ontwerpen die drie keer zo weinig proceskracht vergt als het AES-algoritme. Hun zogeheten PRESENT-algoritme kreeg deze maand de ISO-IEC standaard, die toestaat dat producenten van bijvoorbeeld autosleutels of medische implantaten met PRESENT beveiligde microchips kunnen gaan gebruiken. De beveiliging, die data […]

TU Delft bundelt klimaatonderzoek

Leestijd: < 1 minuten Indra Waardenburg Vanaf deze maand is al het klimaatgerelateerd onderzoek van de TU Delft ondergebracht bij het TU Delft Climate Institute. ‘Het gaat hierbij wel om een virtueel instituut’, aldus Roy Meijer, wetenschapsvoorlichter van de universiteit. De TU Delft besteedt binnen verschillende vakgebieden aandacht aan klimaatonderzoek. De onderwerpen lopen uiteen van het in kaart brengen […]